佳武
 

美國ACM RESEARCH 背面清洗設(shè)備
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品牌： ACM RESEARCH
單價(jià)： 面議
起訂：
供貨總量：
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所在地： 美國
有效期至： 長期有效
最后更新： 2024-12-09 23:03
瀏覽次數(shù)： 149
詢價(jià)
公司基本資料信息
 
 
產(chǎn)品詳細(xì)說明
 　　美國ACM RESEARCH  背面清洗設(shè)備
主要優(yōu)勢
由伯努利夾盤對晶圓背面進(jìn)行全面保護(hù)
藥液回收功能可降低成本
可集成氮?dú)舛黧w清洗功能
可靈活應(yīng)用于濕法刻蝕工藝，如硅蝕刻及薄膜蝕刻工藝
進(jìn)的噴嘴掃描系統(tǒng)
精密的濕法刻蝕均勻度控制
精密的化學(xué)藥液供給
可靈活應(yīng)用于多種襯底材料，包括重?fù)诫s片、Bonding 片、超薄片等
特征規(guī)格
多可配至8套清洗腔體
配備晶圓翻轉(zhuǎn)單元
多可配至5種藥液進(jìn)行清洗工藝或者濕法刻蝕工藝, RCA 藥液, 氫氟酸，氫氟酸/硝酸混合液, 配方藥液等
伯努利夾盤可對晶片背面全面保護(hù)
多可回收2種化學(xué)藥液
 
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